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            實驗室用快速退火爐可提供準確和可重復的熱控制

            作者:admin 瀏覽量:386 來源:本站 時間:2022-03-08 09:31:41

            信息摘要:

            實驗室用快速退火爐基于SolarisGUI的PID處理控制器,可以存儲程序,每個程序多可以支持100個設置步驟,并帶有USB2.0接口。包含與MicrosoftWindows操作系統兼容的SolarisGUI軟件。使用此軟件,可以通過鏈接到計算機輕松地實現程序編輯和數據記錄。實驗室用快速退火爐可以滿足大學,研究實驗室和小規模生產的需求,它是

             實驗室用快速退火爐基于SolarisGUI的PID處理控制器,可以存儲程序,每個程序多可以支持100個設置步驟,并帶有USB2.0接口。包含與MicrosoftWindows操作系統兼容的SolarisGUI軟件。使用此軟件,可以通過鏈接到計算機輕松地實現程序編輯和數據記錄。

              實驗室用快速退火爐可以滿足大學,研究實驗室和小規模生產的需求,它是高度可靠且具有成本效益的。處理腔室采用殼狀設計,可以完全進入底板,便于基板的裝卸,并可以對腔體進行實際清潔??焖俚臄底諴ID溫度控制器可在整個溫度范圍內提供準確且可重復的熱控制。
             

              1、處理室:使用不銹鋼冷室壁技術。

              2、溫度范圍的標準配置:高1250°C。

              3、高溫配置:高1450°C。

              4、溫度控制標準配置:使用熱電偶和高溫計測量溫度。

              5、真空和氣體:使用MFC多可處理5種處理氣體和一種清潔氣體。

              6、計算機控制:完全PC計算機控制,每個公式100步,完整的數據記錄和處理歷史人機界面設計。

              實驗室用快速退火爐快速熱處理技術(RTP)可用于硅和化合物半導體材料的離子注入,消除/激活雜質,硅化物形成,歐姆/肖特基接觸制備以及快速氧化/氮化的缺陷消除,消除膜應力,改善漆膜附著力等方面。該設備具有良好的長期工作穩定性,快速的溫度上升和下降以及緩慢的溫度上升和下降功能,因此還可以用于PVD/CVD工藝中各種半導體材料的熱處理。


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