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            瑞樂百德快速退火爐設備說明

            作者:admin 瀏覽量:441 來源:本站 時間:2022-02-12 16:19:24

            信息摘要:

            快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源,通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C,從而消除晶圓或材料的部分缺陷,提高產品性能??焖偻嘶馉t采用先進的微電腦控制系統和PID閉環控溫,可達到較高的控溫精度和溫度均勻性,并可根據用戶工藝要求配備真空室或多路氣體??焖偻嘶馉t主要由

            快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源,通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C,從而消除晶圓或材料的部分缺陷,提高產品性能。

              快速退火爐采用先進的微電腦控制系統和PID閉環控溫,可達到較高的控溫精度和溫度均勻性,并可根據用戶工藝要求配備真空室或多路氣體。

              快速退火爐主要由真空室、加熱室、進氣系統、真空系統、溫控系統、風冷系統、水冷系統等組成。

            快速退火爐

              真空室:真空室是快速退火爐的工作空間,晶片在此進行快速熱處理。

              加熱室:加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件,以耐高溫合金為框架,以高純石英為主體。

              進氣系統:真空室末端有進氣孔,采用精確控制的進氣口,以滿足某些特殊工藝的用氣要求。

              真空系統:真空泵與真空腔之間裝有高真空電磁閥,可有效保證腔體的真空度,同時防止氣體回流污染腔體內已加工的工件。

              溫控系統:溫控系統由溫度傳感器、溫度控制器、電源調節器、可編程控制器、PC機及各種傳感器組成。

              風冷系統:真空室的冷卻是通過進風系統向腔內充入惰性氣體,以加速熱處理工件的冷卻,達到工藝要求。

              水冷系統:水冷系統主要包括真空室、加熱室、各部件密封圈的冷卻水。


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